Газовые CO2 лазеры серии RF — оборудование Ювента
Конструкция лазерного маркера компактная и технологичная. Позволяет разместить маркер практически везде. Специализированное программное обеспечение легко в освоении и практично. Высокопроизводительные лазерные маркировщики серии RF — собственная разработка компании «Ювента».
Станки серии RF открывают возможность гравировки на любом типе дерева, картоне, пластике и стекле с большой скоростью. Основу станка составляет RF лазер. Особенностью данной конструкции лазера является высокий ресурс и отличное качество луча.
Поле обработки
110x110 мм - 400х400 мм 1
Рабочий отрезок линзы
180-720 мм
Линейность сканатора
99.9%
Дисторсия F-Theta линзы
0,1- 0,7% 2
Угловое разрешение сканатора
12 мкрад
Угловая повторяемость сканатора
20 мкрад
Угловая повторяемость сканатора
20 мкрад
Точность позиционирования для линзы с полем 110x110
3 мкм
Точность позиционирования для линзы с полем 400x400
9 мкм
Пятно фокусировки
35-120 мкм 3
Высота гравируемого изделия
0,1-820 мм 4
Лазерный излучатель
RF CO2 laser
Средняя мощность лазерного излучателя
20-200 Вт
Поляризация
Случайная
Длина волны лазерного излучателя
10,6 мкм
Нестабильность мощности излучения (t>5ч.)
˂5%
Частота повторения импульсов лазера
1-30 кГц 5
Диапазон изменения мощности
10-100%
Охлаждение
Воздушное
Длина волны пилотного излучателя
654 нм
Длина волны доп. фокусного излучателя
654 нм
Угол поворота устройства вращения
360°
Предельное разрешение поворота
0.075 градуса
Программа управления
Полностью русифицированный EZCAD 2.14
Интерфейс связи с ПК
USB
Напряжение питания
220 В
Номинальная потребляемая мощность
450 Вт
Температура эксплуатации
+15-+35 С
1 В зависимости от F-Theta объектива (линзы)
2 Минимальная дисторсия 0,1% достигается для поля 110х110 мм
3 Фактический диаметр точки отражает размер ванны расплава, получаемый от единичного импульса лазера и соответствует минимальной толщине маркируемой линии. Размер пятна напрямую зависит от размера рабочего поля.
4 В зависимости от высоты стойки и рабочего отрезка линзы
5 В зависимости от типа лазерного источника

